Основные технологические процессы получения керамического порошка из оксида алюминия SUOYI
2026-06-04
Основные технологические процессы получения керамического порошка из оксида алюминия SUOYI
Основные технологические процессы получения керамического порошка из оксида алюминия подразделяются на четыре основные категории в зависимости от используемых сырьевых материалов: метод промышленного боксита, метод кальцинирования высокочистого гидроксида алюминия, метод химического осаждения солей алюминия и метод гидролиза алкоксидов. В керамической промышленности для массового производства преимущественно используются первые два метода.
1. Метод спекания боксита (недорогой процесс, применимый для керамического порошка с чистотой 85% и 95%)
1.1 Сырье: Высокоглиноземистый боксит + карбонат кальция, тальк, кварц и другие спекающие добавки;
1.2 Процесс: Дозирование → Мокрое шаровое измельчение → Распылительная сушка → Высокотемпературный предварительный обжиг (1250–1350℃) → Дробление и сверхтонкое измельчение → Удаление железа → Просеивание готовой продукции;
1.3 Характеристики: Низкая стоимость, относительно высокое содержание примесей, **особенно подходит для обычного промышленного керамического порошка чистотой 85% и 95%**, не подходит для высокочистого керамического порошка чистотой 99%.
2. Метод кальцинирования промышленного гидроксида алюминия (основной процесс для керамического фарфора чистотой 95% и 99%)
2.1 Принцип фазовой инверсии при кальцинировании
Промышленный гидроксид алюминия: γ-оксид алюминия (высокая активность, пористая структура) → α-оксид алюминия (фаза корунда, кристаллическая форма для керамики).
Промышленный гидроксид алюминия: γ-оксид алюминия (высокая активность, пористая структура) → α-оксид алюминия (фаза корунда, кристаллическая форма для керамики).
2.2 Технологический процесс
Гидрат алюминия высокой чистоты → Кальцинирование для получения α-Al₂O₃ → Добавление керамических добавок, таких как MgO, SiO₂ и CaO → Влажное измельчение песка для сверхтонкой обработки → Удаление железа → Распыление гранул/дисперсия сухого порошка → Поэтапная выгрузка
Гидрат алюминия высокой чистоты → Кальцинирование для получения α-Al₂O₃ → Добавление керамических добавок, таких как MgO, SiO₂ и CaO → Влажное измельчение песка для сверхтонкой обработки → Удаление железа → Распыление гранул/дисперсия сухого порошка → Поэтапная выгрузка
- Низкотемпературное кальцинирование: активированный оксид алюминия, используемый в огнеупорных и адсорбционных целях;
- Высокотемпературное кальцинирование: порошок корунда α-фазы, основное сырье для керамического порошка 95% и 99%;
- Преимущества: легкое регулирование состава, низкое содержание примесей железа и натрия, хорошая стабильность спекания.
3. Метод химического осаждения высокочистых солей алюминия (ультрадисперсный керамический порошок высокой чистоты 99,5% и выше)
3.1 Сырье: сульфат алюминия/хлорид алюминия + бикарбонат аммония/вода аммиака;
3.2 Процесс: приготовление раствора соли алюминия → нейтрализация и осаждение гидроксида алюминия → промывка и удаление примесей (удаление ионов натрия и сульфата) → сушка → высокотемпературное обжиг → ультратонкое измельчение;
3.3 Преимущества: чистота может достигать более 99,9%, мелкий и однородный размер частиц;
3.4 Применение: ультратонкий керамический порошок для электронных подложек, прозрачный оксид алюминия и прецизионная медицинская керамика; относительно высокая себестоимость производства.
4. Метод гидролиза алкоксида изопропоксида алюминия (нано-порошок высокочистого оксида алюминия, высококачественная специальная керамика)
4.1 Алкоксиды алюминия гидролизуются в воде с образованием прекурсоров гидроксида алюминия;
4.2 Низкотемпературное прокаливание дает нано-α-Al₂O₃;
4.3 В основном используется для литья ультратонких подложек и современной электронной керамики; самый дорогой метод.
5. Постобработка и модификация фарфорового порошка (финишная обработка готового изделия)
Независимо от состава исходного порошка, готовый фарфоровый порошок подвергается необходимой вторичной обработке:
Независимо от состава исходного порошка, готовый фарфоровый порошок подвергается необходимой вторичной обработке:
5.1 Сухое/влажное ультратонкое измельчение: контроль D50 до 0,3–3 мкм;
5.2 Распыление гранулята: формирование сферических частиц, пригодных для сухого прессования;
5.3 Удаление железа и магнитная сепарация: удаление мелкодисперсного железного порошка для предотвращения появления черных пятен во время обжига;
5.4 Предварительное смешивание рецептуры: равномерное смешивание добавок и оксида алюминия, что исключает необходимость для керамических заводов готовить собственные материалы.
- Фарфоровый порошок 85/Обычный 95: метод спекания на основе бокситовой рецептуры
- Фарфоровый порошок общего назначения 95/99 промышленного назначения: высокотемпературное обжиг гидроксида алюминия + компаундирование с добавками
- Высокочистый фарфоровый порошок 99,5+: метод химического осаждения
- Нано-фарфор высшего качества специального назначения: метод гидролиза алкильных солей
Гранулированный порошок оксида алюминия SUOYI CAS: 1344-28-1 (Al₂O₃)
Компания SUOYI производит керамический порошок из оксида алюминия 99Al2O3.
Связанная статья
Нанодиоксид титана, также известный как нанооксид титана, представляет собой ультрадисперсный функциональный порошок диоксида титана с размером частиц от 5 до 100 нм. Он в основном состоит из двух коммерчески доступных кристаллических фаз: анатаза и рутила. В отличие от обычного диоксида титана микронного размера, наноструктура обеспечивает уникальные фотокаталитические эффекты,
Многофункциональный неорганический новый материал SUOYI – порошок нанодиоксида титана (нано-TiO₂)
Порошок оксида кремния (порошок SiO₂) — это высокоэффективный неорганический неметаллический порошковый материал с превосходной термической стабильностью, химической стойкостью, электроизоляционными свойствами и низким коэффициентом теплового расширения.
Порошок диоксида кремния – важнейший базовый порошок для высокоэффективных неорганических материалов
Порошок нитрида алюминия Suoyi: основной порошковый материал для обеспечения высокой теплопроводности и изоляции в электронной полупроводниковой промышленности
В связи с всесторонним развитием полупроводников третьего поколения, вычислительных чипов для искусственного интеллекта, энергетических модулей и радиочастотных устройств 5G, миниатюризация, высокая мощность и высокая частота этих устройств создают двойную проблему: интенсивное тепловыделение и высоковольтная изоляция.
В связи с всесторонним развитием полупроводников третьего поколения, вычислительных чипов для искусственного интеллекта, энергетических модулей и радиочастотных устройств 5G, миниатюризация, высокая мощность и высокая частота этих устройств создают двойную проблему: интенсивное тепловыделение и высоковольтная изоляция.
Порошок нитрида алюминия Suoyi: основной порошковый материал для обеспечения высокой теплопроводности и изоляции в электронной полупроводниковой промышленности