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半導体製造装置のプラズマ溶射コーティング向け高純度球状酸化イットリウム(Y₂O₃)粉末(純度:3N~5N、CAS番号:1314-36-9)
製品概要
噴霧造粒法および高温焼結法によって製造された球状酸化イットリウム(Y₂O₃)粉末です。優れた流動性、高い充填密度、および狭い粒度分布(PSD)を特長としています。フッ素系プラズマに対する耐食性に優れており、半導体製造装置チャンバーのコーティング、溶射、レーザー肉盛(レーザークラッディング)、YSZ(イットリア安定化ジルコニア)の安定化剤、セラミックス用添加剤、3Dプリンティング用セラミックス部品など、幅広い用途で使用されています。
製品概要
噴霧造粒法および高温焼結法によって製造された球状酸化イットリウム(Y₂O₃)粉末です。優れた流動性、高い充填密度、および狭い粒度分布(PSD)を特長としています。フッ素系プラズマに対する耐食性に優れており、半導体製造装置チャンバーのコーティング、溶射、レーザー肉盛(レーザークラッディング)、YSZ(イットリア安定化ジルコニア)の安定化剤、セラミックス用添加剤、3Dプリンティング用セラミックス部品など、幅広い用途で使用されています。
SUOYI社製 球状酸化イットリウム(Y₂O₃)粉末