半導体製造装置のプラズマ溶射コーティング向け高純度球状酸化イットリウム（Y₂O₃）粉末（純度：3N～5N、CAS番号：1314-36-9）
製品概要
噴霧造粒法および高温焼結法によって製造された球状酸化イットリウム（Y₂O₃）粉末です。優れた流動性、高い充填密度、および狭い粒度分布（PSD）を特長としています。フッ素系プラズマに対する耐食性に優れており、半導体製造装置チャンバーのコーティング、溶射、レーザー肉盛（レーザークラッディング）、YSZ（イットリア安定化ジルコニア）の安定化剤、セラミックス用添加剤、3Dプリンティング用セラミックス部品など、幅広い用途で使用されています。

Spherical YSZ Powder
高い球形度：粒子が完全な中実球形をしており、流動性に優れています。粉末供給が均一かつ連続的に行われ、ノズル詰まりやブリッジング（粉末の架橋現象）が発生しません。
高い堆積効率：かさ密度が高く、溶射中の飛行速度が安定しています。そのため、粉末の付着率および堆積効率が、破砕粉に比べて著しく高くなります。

SUOYI 窒化チタン粉末
窒化チタン（TiN）粉末 —— 高硬度・耐摩耗性を備えた「黄金色」の先端セラミックス粉末

Suoyi 酸化クロム系複合溶射粉末
（Chromia Composite Thermal Spray Powder）
Cr₂O₃（酸化クロム）を主相とし、TiO₂、SiO₂、Al₂O₃などの成分を添加して複合改質したセラミック溶射粉末です。

溶射用球状イットリア安定化ジルコニア（YSZ）粉末の製造
球状YSZ粉末、溶射用イットリア安定化ジルコニア、8YSZ溶射粉末、5YSZ溶射粉末、20YSZ溶射用ジルコニア

Suoyi アルミナ造粒粉 / スプレードライ・アルミナ粉末
CAS：1344-28-1
α-Al₂O₃超微粉を主原料とし、焼結助剤や有機助剤を添加して湿式ボールミルでスラリー化・噴霧乾燥（スプレードライ）造粒を行うことで、球状の二次粒子（造粒粉）を得ています。乾式プレス成形や冷間等方圧加圧（CIP）成形に最適化されており、超微粉特有の流動性の悪さ、金型内でのブリッジング（架橋現象）、充填ムラといった課題を解決します。

3Y / 5Y / 8Y YSZ粉末：プロジェクトに最適なイットリア安定化ジルコニアグレードの選び方
イットリア安定化ジルコニア（YSZ）粉末は、現代の工業製造において最も汎用性が高く、広く利用されている先端セラミックス原料の一つであり、航空宇宙、電子セラミックス、遮熱コーティング、構造用セラミックス部品、生体インプラント、精密機械などの分野で活用されています。

一般にYSZ粉末として知られるイットリア安定化ジルコニアは、ファインセラミックス業界において最も多用途な原料の一つとなっています。酸化ジルコニウムに安定化剤としてイットリアを添加することで、加熱・冷却サイクルに伴う破壊的な相変態を抑制し、優れた機械的強度、破壊靭性、熱安定性、耐薬品性を実現します。

Suoyi 窒化ケイ素粉末
窒化ケイ素粉末
α型窒化ケイ素粉末
Si₃N₄
窒化ケイ素構造用セラミックス
Suoyi 窒化ケイ素粉末 (Si₃N₄)：先端構造用セラミックス向け高純度α相粉末

高純度窒化アルミニウム粉末の製造、改質、および応用に関するレビュー