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Polvo esférico de óxido de itrio (Y₂O₃) fabricado mediante granulación por atomización (spray granulation) y sinterización a alta temperatura. Presenta una buena fluidez, alta densidad de empaquetamiento y una distribución de tamaño de partícula (PSD) estrecha. Ofrece una excelente resistencia a la corrosión por plasma de flúor; se utiliza ampliamente en recubrimientos para cámaras de procesamiento de semiconductores, proyección térmica, revestimiento láser (laser cladding).
Polvo esférico de óxido de itrio (Y₂O₃) SUOYI Polvo esférico de óxido de itrio (Y₂O₃) de alta pureza (grados 3N, 4N, 5N; CAS 1314-36-9) para recubrimientos mediante proyección por plasma en la industria de semiconductores.
Polvo esférico de YSZ
Alta esfericidad: Las partículas son esferas perfectamente sólidas con una excelente fluidez, lo que garantiza una alimentación de polvo uniforme y continua, sin obstrucciones en la boquilla ni formación de puentes.
Alta eficiencia de depósito: La elevada densidad aparente y la velocidad estable durante el vuelo de estas partículas esféricas permiten una eficiencia de depósito significativamente mayor en comparación con los polvos triturados (angulares).
Alta esfericidad: Las partículas son esferas perfectamente sólidas con una excelente fluidez, lo que garantiza una alimentación de polvo uniforme y continua, sin obstrucciones en la boquilla ni formación de puentes.
Alta eficiencia de depósito: La elevada densidad aparente y la velocidad estable durante el vuelo de estas partículas esféricas permiten una eficiencia de depósito significativamente mayor en comparación con los polvos triturados (angulares).
Polvo esférico de circonia estabilizada con itria (YSZ) de SUOYI para proyección térmica