수오이 인더스트리 3Y 5Y 8Y 13Y 이트리아 안정화 지르코니아 분말
2026-06-16
수오이 인더스트리 3Y 5Y 8Y 13Y 이트리아 안정화 지르코니아 분말
3mol%/5mol%/8mol%/13mol% 이트리아 안정화 지르코니아 분말(3Y/5Y/8Y/13Y YSZ 분말로 약칭)
이트리아 = 이트리아(Y₂O₃, 안정제)
안정화 지르코니아 = 안정화 지르코니아(ZrO₂)
분말 = 분말
이트리아 몰 도핑: 3Y = 3mol% Y₂O₃, 5Y = 5mol%, 8Y = 8mol%, 13Y = 13mol%
3mol%/5mol%/8mol%/13mol% 이트리아 안정화 지르코니아 분말(3Y/5Y/8Y/13Y YSZ 분말로 약칭)
이트리아 = 이트리아(Y₂O₃, 안정제)
안정화 지르코니아 = 안정화 지르코니아(ZrO₂)
분말 = 분말
이트리아 몰 도핑: 3Y = 3mol% Y₂O₃, 5Y = 5mol%, 8Y = 8mol%, 13Y = 13mol%
1. 3Y (3mol%) Y₂O₃ (3Y-TZP, 정방정계 부분 안정화 지르코니아)
결정상: 주로 정방정계이며, 가장 강력한 상변환 강화 효과를 나타냅니다.
결정상: 주로 정방정계이며, 가장 강력한 상변환 강화 효과를 나타냅니다.
주요 장점: 초고강도 파괴 인성, 굽힘 강도, 내마모성 및 저온 노화 저항성.
일반적인 응용 분야: 치과용 지르코니아 블록/크라운 및 브릿지, 정형외과용 임플란트, 내마모성 절삭 공구, 베어링, 노즐, 전자 구조 세라믹 및 냉간 등방압 성형(CIP)용 원료.
일반적인 응용 분야: 치과용 지르코니아 블록/크라운 및 브릿지, 정형외과용 임플란트, 내마모성 절삭 공구, 베어링, 노즐, 전자 구조 세라믹 및 냉간 등방압 성형(CIP)용 원료.
2.5Y (5mol% Y2O3, 고투과성 정방정계 지르코니아)
결정상: 정방정계, 3Y보다 높은 이트륨 함량.
주요 장점: 투명도가 크게 향상되었으며, 3Y보다 강도는 약간 낮지만 인성은 중간 정도입니다.
일반적인 응용 분야: 심미적인 전치부 올세라믹 보철물, 고투과성 의치, 광학 세라믹, 플라즈마 스프레이 코팅 및 산소 센서 기판.
결정상: 정방정계, 3Y보다 높은 이트륨 함량.
주요 장점: 투명도가 크게 향상되었으며, 3Y보다 강도는 약간 낮지만 인성은 중간 정도입니다.
일반적인 응용 분야: 심미적인 전치부 올세라믹 보철물, 고투과성 의치, 광학 세라믹, 플라즈마 스프레이 코팅 및 산소 센서 기판.
3. 8Y (8mol% Y2O3) Y₂O₃ (8YSZ, 완전 입방정 안정화 지르코니아)
결정상: 순수한 입방정상으로, 상변환 강화가 없어 기계적 강도는 떨어지지만 산소 이온 전도도는 최적입니다.
핵심 장점: 강력한 고온 이온 전도도, 우수한 열 안정성, 고온에서 상변환 균열이 발생하지 않습니다.
대표적인 응용 분야: 고체 산화물 연료 전지(SOFC) 전해질, 고온 산소 센서, 열 차폐 코팅, 고온 내화 세라믹, 고온 밀봉 부품.
결정상: 순수한 입방정상으로, 상변환 강화가 없어 기계적 강도는 떨어지지만 산소 이온 전도도는 최적입니다.
핵심 장점: 강력한 고온 이온 전도도, 우수한 열 안정성, 고온에서 상변환 균열이 발생하지 않습니다.
대표적인 응용 분야: 고체 산화물 연료 전지(SOFC) 전해질, 고온 산소 센서, 열 차폐 코팅, 고온 내화 세라믹, 고온 밀봉 부품.
4. 13Y (13mol% Y₂O₃, 고이트륨 완전 안정화 입방정 지르코니아)
결정상: 고이트륨 입방정상으로, 8Y보다 이온 전도도가 높지만 기계적 특성은 가장 약합니다.
핵심 장점: 매우 낮은 전자 전도도, 초광범위 온도 범위에서 산소 이온 전도, 고온 내식성. 일반적인 응용 분야: 고정밀 고온 산소 프로브, 특수 고온 전해질, 실험실 전기화학 부품, 극한 고온 조건용 코팅.
결정상: 고이트륨 입방정상으로, 8Y보다 이온 전도도가 높지만 기계적 특성은 가장 약합니다.
핵심 장점: 매우 낮은 전자 전도도, 초광범위 온도 범위에서 산소 이온 전도, 고온 내식성. 일반적인 응용 분야: 고정밀 고온 산소 프로브, 특수 고온 전해질, 실험실 전기화학 부품, 극한 고온 조건용 코팅.
1. 산화이트륨 도핑 함량이 높을수록 → 광투과율 및 이온 전도도가 높아지지만, 인성 및 굴곡 강도는 낮아집니다.
2. 3Y: 기계적 한계로, 주로 생의학 및 내마모성 구조 부품에 사용됩니다.
3. 5Y: 심미적으로 반투명하며, 주로 전치부 수복에 사용됩니다.
4. 8Y/13Y: 이온 전도성이 뛰어나며, 주로 에너지 및 고온 감지 응용 분야에 사용됩니다.
3Y/5Y/8Y/13Y 산화이트륨 안정화 지르코니아 나노분말/과립 분말 3YSZ, 5YSZ, 8YSZ, 13YSZ 분말
산화이트륨 안정화 이산화지르코늄 분말
4. 8Y/13Y: 이온 전도성이 뛰어나며, 주로 에너지 및 고온 감지 응용 분야에 사용됩니다.
3Y/5Y/8Y/13Y 산화이트륨 안정화 지르코니아 나노분말/과립 분말 3YSZ, 5YSZ, 8YSZ, 13YSZ 분말
산화이트륨 안정화 이산화지르코늄 분말
SUOYI수산화지르코늄(Zr(OH)₄) 분말의 응용: 환경 수처리용 촉매 및 흡착제
수오이(SUOYI) 알루미나 과립 분말 CAS: 1344-28-1 (Al₂O₃)
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반도체 플라즈마 스프레이 코팅용 고순도 구형 산화이트륨(Y₂O₃) 분말 (3N, 4N, 5N 등급, CAS 1314-36-9)
제품 설명
분무 조립(spray granulation) 및 고온 소결 공정을 통해 제조된 구형 산화이트륨(Y₂O₃) 분말입니다. 우수한 유동성과 높은 충진 밀도를 자랑하며, 입도 분포(PSD)가 균일합니다. 불소(Fluorine) 플라즈마 부식에 대한 저항성이 매우 뛰어나 반도체 챔버 코팅, 용사 코팅(thermal spray), 레이저 클래딩, YSZ 안정제, 세라믹 첨가제, 3D 프린팅용 세라믹 부품 등 다양한 분야에 널리 사용됩니다.
제품 설명
분무 조립(spray granulation) 및 고온 소결 공정을 통해 제조된 구형 산화이트륨(Y₂O₃) 분말입니다. 우수한 유동성과 높은 충진 밀도를 자랑하며, 입도 분포(PSD)가 균일합니다. 불소(Fluorine) 플라즈마 부식에 대한 저항성이 매우 뛰어나 반도체 챔버 코팅, 용사 코팅(thermal spray), 레이저 클래딩, YSZ 안정제, 세라믹 첨가제, 3D 프린팅용 세라믹 부품 등 다양한 분야에 널리 사용됩니다.
SUOYI 구형 산화이트륨(Y₂O₃) 분말
구형 YSZ 분말
높은 구형도: 입자가 완벽한 구형을 이루고 있어 유동성이 매우 우수합니다. 이를 통해 노즐 막힘이나 브리징(분말 엉킴) 현상 없이 균일하고 연속적인 분말 공급이 가능합니다.
높은 증착 효율: 구형 입자는 겉보기 밀도가 높고 비행 중 속도가 안정적이어서, 파쇄형(각진 형태) 분말보다 훨씬 높은 증착 효율을 나타냅니다.
치밀하고 균일한 코팅층: 분말이 완전히 용융되어 고르게 퍼지므로, 기공률이 낮고 표면이 매끄러우며 미세구조가 일정한 코팅층을 형성합니다.
높은 구형도: 입자가 완벽한 구형을 이루고 있어 유동성이 매우 우수합니다. 이를 통해 노즐 막힘이나 브리징(분말 엉킴) 현상 없이 균일하고 연속적인 분말 공급이 가능합니다.
높은 증착 효율: 구형 입자는 겉보기 밀도가 높고 비행 중 속도가 안정적이어서, 파쇄형(각진 형태) 분말보다 훨씬 높은 증착 효율을 나타냅니다.
치밀하고 균일한 코팅층: 분말이 완전히 용융되어 고르게 퍼지므로, 기공률이 낮고 표면이 매끄러우며 미세구조가 일정한 코팅층을 형성합니다.
SUOYI 용사(Thermal Spraying)용 구형 이트리아 안정화 지르코니아(YSZ) 분말